積層セラミックス技術のすべて
目次
プロローグ 電子機器の小型化・高性能化と積層セラミックスデバイスの開発
1 材料開発編(誘電体材料;磁性体材料;圧電体材料;Ni電極;コーティング電極)
2 プロセス技術編(粉砕・分散;シート成形)
3 応用デバイス編(積層コンデンサ;積層インダクタ;積層バリスタ;積層PTCサーミスタ;積層NTCサーミスタ;積層電圧デバイス)
著者等紹介
一ノ瀬昇[イチノセノボル]
早稲田大学名誉教授。早稲田大学理工学総合研究センター顧問研究員
山本孝[ヤマモトタカシ]
防衛大学校通信工学科教授(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
出版社内容情報
携帯電話、モバイルパソコンなどの電子機器に搭載されるコンデンサー、インダクターなどの受動電子部品のさらなる積層セラミックス技術を、材料開発、プロセス技術、応用デバイスの3つの面から解説する。