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半導体の高次元化技術―貫通電極による3D/2.5D/2.1D実装
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目次

第1章 TSV技術の開発
第2章 TSVの作成プロセス
第3章 TSVチップの3D積層技術
第4章 TSVを使ったワイドIOメモリシステム
第5章 2.5D TSVチップ積層構造
第6章 TSV‐3Dメモリシステムの開発
第7章 新インターポーザと2.1Dデバイス
第8章 3D用マイクロバンプ、チップフィル、実装材料
第9章 TSV関連の技術開発



著者等紹介

傳田精一[デンダセイイチ]
工学博士。信州大学工学部卒業。通産省電気試験所主任研究官、サンケン電気常務取締役、コニカ常務取締役、エレクトロニクス実装学会名誉顧問、長野県工科短大客員教授、長野実装フォーラム名誉理事(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)